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GCIB-10S 離子源系統(tǒng)
產(chǎn)品簡介

GCIB-10S 離子源系統(tǒng)是一種高性能10千伏氣體團(tuán)簇離子束，用于快速、低損傷濺射和更高質(zhì)量的表面分析。GCIB 10S提供了大量有用的功能，包括實時集群大小測量和內(nèi)置樣本電流成像系統(tǒng)，以幫助您充分利用實驗。

產(chǎn)品型號：GCIB 10S
更新時間：2024-09-12
廠商性質(zhì)：代理商
訪問量：1645
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簡介：

GCIB-10S 離子源系統(tǒng)是一種高性能10千伏氣體團(tuán)簇離子束，用于快速、低損傷濺射和更高質(zhì)量的表面分析。

GCIB 10S提供了大量有用的功能，包括實時集群大小測量和內(nèi)置樣本電流成像系統(tǒng)，以幫助您充分利用實驗。 

GCIB-10S 離子源系統(tǒng)具有完整的泵送系統(tǒng)和單獨軟件，是一種栓接式升級，將集束束濺射的力量引入現(xiàn)有的真空儀器，如XPS、SEM和SIMS。

       

 

主要參數(shù)：



主要應(yīng)用                濺射            
光斑尺寸                250 µm                
掃描范圍                7.5 x 7.5 mm                
能耗范圍                1 – 10 kV                
電流范圍                60 nA                
法蘭至機(jī)頭長度                143 mm               
推薦工作距離                50 mm                
電源裝置                3U x 19’’ rack mountable unit    
電源要求                110-240VAC 13A 50/60Hz                
軟件要求                        PC running Windows 10 or later                   
集成法蘭規(guī)格                NW 63 CF                














特點:  

◇  10kV氬團(tuán)簇離子源，可選擇Ar1至>Ar3000的團(tuán)簇；

◇  實時集群測量和調(diào)整；

◇  采樣電流成像；

◇  光斑尺寸大，掃描范圍寬，可均勻去除材料；

◇  易于安裝在許多高真空儀器上；

◇  單獨軟件和基于web套接字的API，用于與第三方軟件集成




應(yīng)用技術(shù)： 

GCIB 10S可去除不定碳和其他表面污染，而不會損壞基材， 同時還可對有機(jī)物和聚合物等軟材料進(jìn)行無損傷深度剖析。

右圖顯示了分別使用Ar1和Ar2000蝕刻原始PET表面前后的C 1s 峰值。數(shù)據(jù)清楚地顯示了單原子Ar1束（紅色）造成的化學(xué)損傷，而光譜在暴露于Ar2000束（藍(lán)色）后幾乎保持不變

         

               



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